直逼1nm工藝 ASML下一代EUV光刻機延期 至少2025年

ASML公司前兩天發布了財報,,EUV光刻機出貨31台,帶來了45億歐元的營收,單價差不多11.4億歐元了。

雖然業績增長很亮眼,但是ASML也有隱憂,實際上EUV光刻機的出貨不及預期的35台,而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機要到2025-2026年之間才能規模應用,意味着要延期了。

此前信息顯示,ASML下一代EUV光刻機最早是2022年開始出樣,大規模量產是2024-2025年間。

直逼1nm工藝 ASML下一代EUV光刻機延期 至少2025年

ASML的EUV光刻機目前主要是NEX:3400B/C系列,NA數值孔徑是0.33,下一代EUV光刻機是NEX:5000系列,可將NA提升到了0.55,意味着光刻機的分辨率提升了70%。(註:NA越高,光刻機精度越高)

目前的EUV光刻機可以用於製造7nm到3nm工藝的芯片,下代EUV光刻機則是針對3nm以下的節點,2nm甚至未來的1nm工藝都要用到NA 0.55的EUV光刻機。

直逼1nm工藝 ASML下一代EUV光刻機延期 至少2025年

作者:憲瑞
來源:快科技