Arm在其Arm BlueprintBlog網誌上發表了一篇新文章，認為計算模式正在發生變化，每瓦性能將是新的摩爾定律，成為設計的驅動目標。Arm的研究員兼技術總監Rob Aitken寫了一篇文章，對整個行業和發展方向進行了回顧。
在過去，大家已經看到了電晶體密度的增長，在摩爾定律里，設備性能持續提高，這是非常真實的。直到幾年前，設計人員開始遇到了困難。半導體工藝變得越來越小，當接近原子尺寸的時候，幾乎不可能建立那麼小的新節點。隨之而來的是一些新的分析，去預測按照這樣的道路能走多遠。目前Arm正處於突破點，新的設計或者說正在開發的新IP，正在將一個重要因素納入到這個過程里，就是計算效率和每瓦性能。
每瓦性能作為一種新規范，是因為更多的現代設計正在考慮將計算效率作為每一步改進的主要因素。隨著設計越來越龐大和復雜，效率可能會降低。為了獲得更好的設計，工程師們必須以某一個性能點為目標，同時盡可能地用更少的功率實現它。
優化工作負載以利用超低功耗處理這可以通過諸如TinyML之類的方式獲得動力，其側重於機器學習工作負載的優化，能夠以毫瓦級的功率運行。在每瓦性能成為新的規范後，可以指導產品路線圖，從功率范圍內提取越來越多的性能。
來源：超能網
