快閃記憶體「蓋樓」新紀錄 三星下一代V-NAND將突破200層:未來可達1000層

自從快閃記憶體進入3D時代,堆棧層數猶如摩天大樓一樣越來越高,從最初的24/32層一路堆到了現在的128層甚至176層。三星下一代的第八代V-NAND快閃記憶體有望超過200層,未來還可以做到1000層。

目前全球半導體晶片產能緊張,NAND快閃記憶體本身也是牛市周期,三星准備藉此機會擴大生產規模,現在韓國平澤市的存儲晶片工廠已經是全球最大的,三星計劃建設第二座平澤工廠。

在快閃記憶體技術上,三星的128層V-NAND快閃記憶體已經量產,2021年下半年則會量產第7代V-NAND快閃記憶體,堆棧層數提升到176層。

在「蓋樓」層數上,三星實際上已經落後於美光,後者在去年底就推出了176層3D快閃記憶體,並且量產了,三星現在要奮起直追了。

超越美光的希望就是再下一代的第8代V-NAND快閃記憶體,堆棧層數有望超過200層,不過三星沒公布具體情況,預計要到明年下半年才有可能量產。

至於未來的層數還能堆多高,早前有消息稱超過500層的話就會遇到難以克服的瓶頸,是當前3D堆棧的極限了,但三星的目標是希望超過1000層,這個就需要很多技術突破了。

快閃記憶體「蓋樓」新紀錄 三星下一代V-NAND將突破200層:未來可達1000層

來源:快科技