近日，台積電在日本就最新的製程技術召開了一次新聞發布會，詳細介紹了N3E工藝節點的進展及其所帶來的性能提升。此外，台積電還展示了備受期待的下一代製程工藝的線路圖，預計2納米工藝將在2025年實現量產。
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台積電副總經理張曉強在發布會上講解了台積電的最新技術，並表示台積電正在快速發展，在2022年共獲得了54.7億美元的投資，目前公司員工達8558人，表明台積電正在快速擴大其設施並投入時間和金錢開發下一代工藝。
為了強調前幾代工藝的演變，台積電還展示了5nm工藝及每個衍生產品的性能提升。除了N5P，N4和N4P工藝外，台積電還分享了新的N4X節點的數據，聲稱其性能對比三年前發布的N6提高了17%，晶片密度高出5%。
台積電重申：3nm工藝已經從2022年初開始量產，而更新後的N3E工藝已獲得技術認證，並將於2023年下半年上市。此外，N3P工藝作為3nm工藝系列的性能增強版本之一，將在2023下半年投入生產，對比N3E性能提升5%，功耗降低5-10%，晶片密度提高1.04倍。另一方面，對於汽車行業，由於自動駕駛等技術創新，對尖端邏輯技術和計算性能的需求不斷增加，台積電將推出基於N3E的N3AE（Auto Early）。它將在正式的汽車產品N3A之前作為工藝設計套件（PDK）提供，以支持汽車產品的早期開發，加快上市速度。
當談到備受矚目的2 納米工藝，台積電表示，N2在2nm工藝中的技術開發正在有序進行，預計將在2025年實現量產。 與N3E相比，台積電的2nm工藝將採用納米片技術以替代FinFET電晶體，對比N3E性能將提高了10~15%，功耗降低25~30%，晶片密度提高了1.15倍。
來源：超能網
