韓國脈沖公司稱，美國的新制裁措施禁止向中國供應深紫外線晶片設備，韓國的三星和SK海力士公司擔心自身受到牽連。
3月初，美國國家安全委員會（NSC）稱，應限制向中國出售DUV設備。限制中特別提到了與氟化氬（ArF）有關的技術，氬氟浸沒式光刻技術對於16納米或更小尺寸的雙極型生產至關重要。
消息稱，三星和SK海力士在中國的工廠分別將這些技術用於NAND記憶體和DRAM，據悉，韓國半導體工業協會（KSIA）已經向美國政府提出，要對這兩家製造商做出例外規定，因為它們對韓國經濟至關重要。KSIA擔心美國對許多中國晶片製造商的制裁將擴大到所有在中國設有生產基地的製造商。
極紫外線光刻機（EUV）的銷售已被禁止，目前來說，ASML仍被允許向中國中芯國際提供DUV設備。
來源：遊民星空
