作為IDM 2.0戰略中的重要一環，Intel昨晚正式宣布了歐洲地區的晶片投資計劃，10年內計劃投資800億歐元（約合5580億人民幣），首批投資330億歐元，涉及德國、法國等多個國家，還計劃量產2nm以下的晶片。
Intel在歐洲地區的投資規模不亞於美國本土的投資計劃，而且涉及范圍更多，美國本土主要是半導體製造及研發，歐洲地區還有先進封裝技術。
在首批330億歐元的投資中，Intel重點會在德國投資170億歐元，在該國馬格德堡地區建設2座半導體晶圓廠，將嘗試生產2nm以下的晶片。
目前在德國的選址計劃立即展開，工廠建設預計在2023年啟動，2027年有望量產，該計劃將帶動7000多個建築工作崗位、3000多個永久性的Intel工作崗位及數萬個供應鏈合作夥伴的工作崗位。
此前Intel在歐洲的晶圓廠主要是在愛爾蘭，Intel計劃投資120億歐元擴建該地區的晶圓廠。
在法國，Intel計劃投資建立新的研究中心，將帶來1000個額外的高科技工作崗位，2024年首批就有450個工作機會。
在義大利，由於該國也計劃在2030年之前補貼40億歐元推進半導體產業，Intel也在跟Intel談判，主要是建設先進封裝廠，潛在投資高達45億歐元，預計將創造1500個工作崗位，工廠最快在2025年到2027年間投入運營。
來源：快科技
