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當地時間4月24日，荷蘭光刻機大廠ASML在年度股東大會上宣布，ASML原執行長Peter Wennink（溫寧克）和原首席技術官Martin van den Brink正式退休，ASML原營運長（COO）、法國籍的Christophe Fouquet正式成為ASML新的總裁兼執行長。 △Christophe Fouquet 法國籍新CEO帶來的遐想：總部將搬到法國？ 資料顯示，Peter Wennink從2013年7月以來一直領導著ASML，帶領這家荷蘭企業邁向巔峰。在過去10年當中，ASML推出了最先進的晶圓製造設備，Peter Wennink成功地將ASML打造成全球領先的半導體設備供應商。 Christophe Fouquet則是在ASML工作了15年，主要專注於ASML的技術、產品和客戶。在其職業生涯中，開始於DUV業務，隨後領導ASML應用業務和EUV（極紫外）業務，擔任 EUV技術執行副總裁，並於 2022 年成為ASML的營運長。 Christophe Fouquet 表示：“我很高興……能夠譜寫 ASML 的新篇章，並繼續為我們的股東創造巨大的價值。” 需要指出的是Christophe Fouquet是一位法國人，因此在其於去年12月被提名為ASML新CEO之後，在傳出ASML因“移民政策問題”考慮將總部搬出荷蘭的傳聞之時，有報導就將其與法國籍的ASML新CEO聯想到了一起，認為ASML將考慮把總部搬到荷蘭。 另一方面則是由於，法國總統馬克龍打造“更加獨立自主”的法國的承諾，使得有分析認為，ASML將總部搬到法國，將有助於ASML從美國與荷蘭政府對中國的貿易限制導致的業務受損中脫身。、 歐洲科技媒體“Bits&Chips”就評論稱，Christophe Fouquet的法國國籍可能是有利的。雖然他在與荷蘭政客打交道時可能處於不利地位，但“他的法國血統可能會在地緣政治風暴繼續肆虐的國際舞台上有所幫助”。 “法國代表著一個自豪和自信的歐洲，因此在遏制美國的干涉，例如出口措施時，新任ASML執行長總是會發現法國總統站在他一邊。” 但是從現實情況來看，ASML將總部撤出荷蘭的可能性很小，即使有撤出荷蘭的可能性，那麼搬到法國的可能性也更小。 首先，ASML從誕生到發展壯大的數十年來一直都是紮根於荷蘭，想要撤出並不是一件簡單的事，也不是一個作為職業經理人的CEO所能夠決定和推動完成的。 前CEO Peter Wennink公開抱怨“移民政策”問題，可能只是為了向荷蘭政府施壓以改善“移民政策”。 其次，ASML的很多的關鍵技術的研發、核心工程師都是在荷蘭。 目前ASML只在荷蘭和美國有研發中心。更為關鍵的是，ASML發往全球的設備都是在荷蘭的工廠進行總裝測試完成之後，再進行拆包分發給全球客戶的。 目前ASML還沒有在荷蘭之外有這樣的工廠，並且該工廠內的組裝調試的資深工程師都是荷蘭人。 第三，雖然ASML的供應商遍布全球，但是在數十年的發展過程中，圍繞ASML的荷蘭本地供應商也是非常眾多，其中不乏一些關鍵零部件的供應商。 相比之下，法國不僅缺乏半導體生態，ASML的供應商也很少，相關的半導體人才就更少了。半導體廠商到一個地方建廠首先要考察的就是當地的半導體生態系統，更何況的搬遷總部。 而且，如果ASML真的將總部撤出荷蘭，那麼其與荷蘭政府的關系必然會鬧僵，荷蘭政府後續必然會出台相關限制政策來限制ASML將一些關鍵資產、智慧財產權及人才轉移出荷蘭。這對於ASML可能將會得不償失。 在華浸沒式DUV售後維護將受限！ 值得注意的是，據路透社的報導，ASML原執行長Peter Wennink在當地時間4月24日對外透露，在某些情況下，美國政府將阻止ASML為其之前出售給中國客戶的一些機器提供售後服務，而這一表態與Peter Wennink於4月中旬在ASML一季度財報會議上的表態大相逕庭。 此前一直有報導稱，美國正在向荷蘭政府施壓，希望進一步限制ASML對於中國客戶提供售後的服務。 美國商務部負責工業和安全的副部長Alan Estevez此前表示：“我們正在與我們的盟友合作，確定什麼對服務重要，什麼對服務不重要。我們正在推動不對這些關鍵部件提供服務，因此我們正在與盟友進行討論。” 他補充說，美國並不打算限制設備供應商維護更多中國企業能夠自行修復的外圍部件。 對於半導體設備來說，要想持續穩定在半導體製造產線上運行，設備的維護極為的關鍵。 如果這些設備離開了售後維護，甚至可能會在一周之內就會出現問題。同樣，設備的一些核心零部件也需要定期更換。 對此，Peter...

此前有報導稱，ASML（阿斯麥）有意搬離荷蘭，向其他地方擴張或遷移。很重要一個原因是荷蘭收緊勞工移民規定，由於ASML在荷蘭的員工里，有40%是非荷蘭籍，這將嚴重影響ASML招聘新員工及未來的發展。荷蘭政府隨後啟動了「貝多芬（Beethoven）」的特別計劃，承諾投入25億歐元用於加強ASML總部所在的埃因霍溫地區的基礎設施、教育和住房，以支持其發展。 據DigiTimes報導，近日ASML表態，考慮加大總部所在區域的投資，以進一步擴張。有消息稱，ASML已經與埃因霍溫當地政府簽署了一份意向書，這很可能結束外界對ASML將部分業務遷移海外的猜測。荷蘭政府承諾投入的25億歐元，將創造2萬個新的工作崗位。 ASML財務長Roger Dassen表示，鑒於需要在未來十年內將其業務翻一番以滿足市場飆升的需求，ASML存在許多不確定性，而尋找技術移民和建設基礎設施以支持其發展的需要仍然是首要任務。ASML執行長Peter Wennik稱，要有足夠多的合格人才，ASML才能繼續發展，雖然更傾向於留在荷蘭，但如果需求得不到滿足，會在東歐、亞洲或者美國得到這些人才，那麼ASML就會去那裡。 今年夏天有關支持ASML擴張的計劃將在埃因霍溫市議會進行投票，這很可能最終決定ASML的命運，到底留在荷蘭，還是向外遷移。 ...

快科技4月23日消息，荷蘭對光刻機巨頭阿斯麥離開的消息感到十分擔憂，但現在情況有了明顯的好轉。 根據媒體報導，荷蘭晶片設備製造商阿斯麥公司已與荷蘭埃因霍溫市簽署了一份意向書，計劃在該市北部機場附近進行擴建，預計將能夠容納多達20000名新員工。 此前，荷蘭政府宣布了一項價值25億歐元的計劃，將在未來幾年內用於改善阿斯麥總部所在地的住房、教育、交通和電網等基礎設施。 除了基礎設施改善外，荷蘭政府還將採取行動來減輕企業的稅收負擔。 此前，阿斯麥曾向荷蘭政府表達了向其他地方擴張或遷移的意向，其中法國和美國都是備選地點。 來源：快科技

快科技4月22日消息，今年一季度，ASML有近一半收入（19億歐元、占比49%）來自中國大陸市場。 如果拋開最先進的極紫外（EUV）光刻機，中國大陸的收入占比達到91%。 作為對比，去年一季度，這兩個比例分別只有8%和17%。美國政府限製得越凶，中國公司反而買得更多了。 ASML預計，今年中國地區的銷售額將有 10% 到 15% 受到出口管制措施的影響。 盡管如此，CFO羅傑·達森（Roger Dassen）在財報電話會上說，今年剩下的日子裡中國客戶需求將持續強勁。 阿斯麥財務長達森稱，中國客戶約占公司積壓訂單的20%。“中國的需求很強勁。其產能增加是合理的，並且符合本世紀後半段的全球需求。” “目前，沒有什麼能阻止我們為中國客戶已經購買的產品提供服務”，公司CEO溫寧克說道。 來源：快科技

近日ASML（阿斯麥）表示，本月將向第二位客戶交付High-NA EUV光刻機，安裝工作也即將開始。不過ASML並沒有透露，具體交付給哪一家公司。其提供0.55數值孔徑，與此前配備0.33數值孔徑透鏡的EUV系統相比，精度會有所提高，可以實現更高解析度的圖案化，以實現更小的電晶體特徵。 ASML還宣布，已經在其位於荷蘭費爾德霍芬的High-NA實驗室首次使用High-NA EUV光刻機印刷出10nm線寬（dense line）圖案。這是迄今為止列印出的最精細的線條，創下了EUV光刻設備新的世界紀錄。這是世界上目前僅有的兩套High-NA EUV光刻系統之一，另外一套剛剛在英特爾的Fab D1X晶圓廠完成組裝工作，正在進行校準步驟。 該演示驗證了ASML合作夥伴蔡司的創新型High-NA EUV光學設計，在光學系統、傳感器和平台完成粗調校準後，列印出突破性的圖案。這是以全規格運行的第一步，接下來將致力於讓系統達到最佳性能表現，並最終在實際生產環境中復制這一成果。 雖然ASML的客戶並不著急使用High-NA EUV光刻機進行大規模生產，但都准備在未來某個時間點引入新的製造工藝，這也是ASML對High-NA EUV光刻機的銷售前景感到樂觀的原因之一。此前有報導稱，一台High-NA EUV光刻機的價格大概為3.8億美元，是EUV（約1.83億美元）的兩倍多，ASML目前收到的訂單數量在10至20台之間。 ...

英特爾晶圓代工（Intel Foundry）宣布，在先進半導體製造領域取得了一個關鍵的里程碑，已在美國俄勒岡州希爾斯伯勒的英特爾半導體技術研發基地完成了業界首台High-NA EUV光刻機組裝工作。目前英特爾正在Fab D1X進行校準步驟，為未來工藝路線圖的生產做好准備。 去年末，ASML向英特爾交付了首台High-NA EUV光刻機，型號為TWINSCAN EXE:5000的系統。英特爾將其作為試驗機，可以更好地了解High-NA EUV設備的使用，獲得寶貴的經驗。High-NA EUV光刻機將提供0.55數值孔徑，與此前配備0.33數值孔徑透鏡的EUV系統相比，精度會有所提高，可以實現更高解析度的圖案化，以實現更小的電晶體特徵。 英特爾院士兼英特爾晶圓代工邏輯技術開發光刻、硬體和解決方案總監Mark Phillips表示，隨著High-NA EUV的加入，英特爾將擁有業界最全面的光刻工具箱，使其能夠推動Intel 18A以外的未來製程工藝進入本十年（2021年至2030年）的後半段。 新工具能夠通過改變將列印圖像投射到矽晶圓上的光學設計，顯著提高下一代處理器的解析度和功能縮放。當與英特爾晶圓代工的其他工藝技術功相結合時，High-NA EUV有望列印現有EUV工具1.7倍一維密度的功能。這意味著在二維特徵縮放上，可實現1.9倍的密度提升。 High-NA EUV光刻技術將在先進晶片開發和下一代處理器的生產中發揮關鍵作用，英特爾打算在Intel 14A工藝引入，最快會在2026年到來。在此之前，英特爾將繼續優化先進的工藝技術，以進一步提高性能和成本效益。 ...

快科技4月19日消息，光刻機製造商ASML的CEO公開表示，沒有理由不為中國客戶提供售後服務。 荷蘭晶片設備製造商阿斯麥（ASML）周三發布的財報顯示，第一季度淨預訂量從去年第四季度的92億歐元降至36億歐元。 阿斯麥財務長達森稱，中國客戶約占公司積壓訂單的20%。“中國的需求很強勁。其產能增加是合理的，並且符合本世紀後半段的全球需求。” “目前，沒有什麼能阻止我們為中國客戶已經購買的產品提供服務”，溫寧克稱。 媒體表示，阿斯麥是歐洲市值最高的科技公司，而它現在已經成為美國政府用以遏制中國晶片產業發展的靶子。 近日，美國高官要求荷蘭政府下令，禁止阿斯麥為在現有銷售禁令實施前中國采購的受限制晶片製造設備提供服務和維修。 來源：快科技

快科技4月18日消息，根據最新公布的財報，ASML今年一季度淨銷售額52.90億歐元(約合人民幣406.5億元)，環比下滑26.9％；毛利率51.0％，環比減少0.4個百分點；淨利潤12.24億歐元(約合人民幣94.1億元)， 當季，ASML售出光刻機共70台，其中全新66台、二手4台，最新的EUV極紫外光刻機賣了11台，同時新增訂單金額為36億歐元，其中6.56億歐元訂單來自EUV業務。 按照地區劃分，中國大陸地區貢獻了49％的銷量，環比增加10個百分點；EMEA(歐洲中東和非洲)占20％，韓國占19％，台灣降至6％。 受出口管制政策影響，ASML的先進光刻機無法銷售到中國大陸市場，官方預計對2024年中國大陸地區銷售額的影響約為10-15％，並強調相關規則暫時沒有進一步變化。 不過，美國仍在進一步施壓。 美國商務部負責工業和安全的副部長Alan Estevez此前曾提出，將推動禁止ASML為已經銷售給中國大陸的光刻機設備提供維修售後服務，尤其是涉及到關鍵零部件。 ASML總裁兼首CEO Peter Wennink對此明確回應稱：“我認為根據我們已經有的結論，沒有什麼可以阻止我們為中國現有的已安裝系統提供服務。” 他進一步表示，這些是兩國政府之間需要討論的事情，因為涉及到所謂的國家安全利益，ASML會提供相關意見，並確保被充分考慮。 來源：快科技

快科技4月18日消息，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）業績爆雷，這也導致公司股價大幅下挫。 阿斯麥發布的2024年第一季度財報。財報數據顯示，公司今年一季度營收端大幅下滑，實現營收52.9億歐元，同比下降21.6%，不及市場預期：公司一季度淨利潤為12.24億歐元，同比下滑37.4%。 另外，第一季度該公司的新增訂單額為36.1億歐元（其中包括6.56億歐元的EUV訂單），遠低於市場預期的51億歐元。 相較於2023年第四季度創紀錄的91.9億歐元的訂單額，今年一季度的訂單下滑了近三分之二。 總部位於荷蘭的阿斯麥占據了高達80%的高端光刻機市場份額。全球晶片廠商最先進位程晶片所需的EUV光刻設備，全部都來自阿斯麥。 對於這樣糟糕的成績，有不少人士也是“支招”，7nm或者更先進的光刻機，只管給中國廠商供應，保證生意火爆到不行。 來源：快科技

近日，ASML（阿斯麥）公布了2024年第一季度財報。ASML執行長Peter Wennick表示，2024年是一個過渡的年份，將繼續在產能提升和技術方面進行投資，為周期的轉變做好准備。 2024年第一季度財報顯示，該季度中淨銷售額為53億歐元（約合人民幣409.04億元），毛利率為51%，淨利潤為12億歐元（約合人民幣92.61億元）。在該季度里，淨預定量為36億歐元（約合人民幣277.84億元），其中6.56億歐元（約合人民幣38.7億元）自於EUV系統。 從ASML展示的材料來看，中國大陸是ASML最大的客戶，貢獻了49%的淨銷售額，比起2023年第四季度的39%表現更為強勁，已連續三個季度成為ASML最大市場。從1988年首台ASML設備運到中國大陸，到2023年底，ASML在中國大陸的光刻機加上量測的機台裝機量接近1400台。 與此同時，ASML也更新了股票回購計劃和股息提案。在2023年總股息為每股普通股6.10歐元，與2022年相比增長了5.2%。考慮到2023年和2024年支付了三次每股普通股1.45歐元的中期股息，向年度股東大會提議的最終股息為每股普通股1.75歐元。在該季度里，ASML根據現行的2022-2025年股票回購計劃購買了價值約4億歐元的股票。 ASML預計2024年第一季度的淨銷售額在57億歐元到62億歐元之間，毛利率在50%到51%之間，研發成本約為10.7億歐元，SG&A成本約為2.95億歐元。Peter Wennick稱，ASML對全年的展望保持不變，預計下半年的表現會強於上半年，與行業從低迷中復蘇的趨勢一致。 ...

快科技4月18日消息，ASML公開表示，將繼續為中國大陸廠商提供設備維修服務。 此前有消息稱，美國計劃向荷蘭施壓，試圖阻止ASML在中國提供部分設備的維修服務。 在業績電話會上，ASML執行長溫寧克回應稱，“目前沒有什麼可以阻止我們為在中國大陸安裝的設備提供服務。” 光刻機是製造晶片的關鍵設備，中國大陸是ASML的第二大市場。 因此，這種限制可能對中國的晶圓製造商產生重大影響，特別是對於維護產線穩定運行所必需的光刻機核心部件的供應和維護。 之前外界擔心，受限的光刻機主要是NXT:2000i及更先進的機型，而其他未受限的光刻機型銷售和維護則不受影響。 來源：快科技

快科技4月17日消息，ASML(阿斯麥)今天公布了2024年第一季度財報，當季實現淨銷售額52.90億歐元(約合人民幣406.5億元)，環比下滑26.9％；毛利率51.0％，環比減少0.4個百分點；淨利潤12.24億歐元(約合人民幣94.1億元)，環比下滑40.2％。 淨銷售額處於預測營收區間的中間值，毛利率高於預期，主要原因是浸潤式光刻機、EUV業務收入更高， 當季售出光刻機共70台，其中全新66台、二手4台，同時新增訂單金額為36億歐元，其中6.56億歐元訂單來自EUV業務。 過去半年累計新增訂單金額近130億歐元。 ASML預計第二季度淨銷售額57-62億歐元，毛利率50-51％，2024年全年收入將與2023年基本持平，今年被視為調整年。 ASML預計2025年將是強勁增長的一年，淨銷售額可達300-400億歐元，大部分銷售的低數值孔徑EUV光刻機型號將是NXE:3800，高數值孔徑型號EXE:5200也會推出，從而大幅拉高平均售價和毛利率，可達54-56％。 產能方面，ASML未來將擴大到年產90台低數值孔徑EUV、600台DUV，中期達到年產20台高數值孔徑EUV。 來源：快科技

4月5日消息，據媒體報導，美國正在對荷蘭頂級晶片生產設備製造商ASML施加壓力，不允許其向中國廠商提供光刻機工具維修服務。 ASML是全球最大的光刻機製造商之一，也是唯一的極紫外（EUV）光刻機供應商。 美國對ASML的施壓始於2019年，意圖限制接收荷蘭設備的中國晶片製造商名單，並阻止ASML在中國提供維修服務。 光刻機是製造晶片的關鍵設備，中國大陸是ASML的第二大市場。因此，這種限制可能對中國的晶圓製造商產生重大影響，特別是對於維護產線穩定運行至關重要的光刻機核心部件的供應和維護。 目前，受限的光刻機主要是NXT:2000i及更先進的機型，而其他未受限的光刻機型銷售和維護則不受影響。 然而，如果相關設備零部件涉及美國技術來源，則可能受到美國的出口限制。 這一舉措突顯了全球晶片產業鏈中的地緣政治風險，也凸顯了技術制裁對於關鍵技術行業的影響。 來源：快科技

此前有報導稱，ASML（阿斯麥）有意搬離荷蘭，向其他地方擴張或遷移。很重要一個原因是荷蘭新組建的內閣可能收緊勞工移民規定，這將嚴重影響ASML招聘新員工及未來的發展。目前ASML在荷蘭大約有2.3萬名員工，其中40%是非荷蘭籍，海外留學生和雇員是其主要勞動力來源之一。 據相關媒體報導，荷蘭政府已啟動「貝多芬（Beethoven）」的特別計劃，承諾投入25億歐元用於加強ASML總部所在的埃因霍溫地區的基礎設施、教育和住房，以支持公司的發展並解決其對荷蘭商業環境所擔憂的一系列問題，其中還涉及包括外籍人士的稅收優惠、勞工移民規定和政治穩定等問題。 荷蘭經濟事務大臣Micky Adriaansens已向媒體證實了此事，在一份聲明中，荷蘭政府提到「在採取這些措施時，內閣假定ASML將繼續投資，並保留其在荷蘭的法定、財政和實際總部」。 據了解，資金的具體用途包括：用於升級交通網絡，包括道路、公共汽車和火車；支持技術教育和職業培訓，滿足ASML在用工方面的需求；適應該地區增長計劃的住房項目。ASML對政府的聲明表示歡迎，強調了有利的商業條件的重要性，表示期待與政府間的合作。 ASML媒體關系主管Monique Mols在向媒體發送的聲明中表示：「今天提出的計劃，如果得到議會的支持，ASML將大力支持這些提出的商業條件，並將繼續與荷蘭政府合作，最終確定我們關於擴張的決定。」 ...

快科技3月29日消息，據媒體報導稱，荷蘭政府正積極行動，力求確保光刻機技術領軍者ASML繼續紮根本土。 根據荷蘭媒體披露的文件草案，該計劃包括恢復對技術移民的稅收減免，並為阿斯麥總部所在地——埃因霍溫地區的發展預留10億至13億歐元資金。 ASML執行長溫寧克（Peter Wennink）此前曾警告稱，該公司高度依賴熟練的外國勞工，並擔心荷蘭的商業環境正在惡化。 今年1月，溫寧克表示：“限制勞動力遷移的後果是巨大的，我們需要這些人進行創新。如果我們在這里找不到這些人，我們就去其他可以發展的地方。” 總部位於荷蘭的ASML是歐洲第三大市值公司，市值接近3650億歐元。 去年，ASML實現了創紀錄的276億歐元營收，較2022年增長了30%，淨利潤激增至78億歐元，增加了約22億歐元。 來源：快科技

最近ASML（阿斯麥）交付了第三代極紫外（EUV）光刻工具，新設備型號為Twinscan NXE:3800E，配備了0.33數值孔徑透鏡。相比於之前的Twinscan NXE:3600D，性能有了進一步的提高，可以支持未來幾年3nm及2nm晶片的製造。 在ASML看來，Twinscan NXE:3800E代表了Low-NA EUV光刻技術在性能（每小時處理的晶圓數量）和精度方面的又一次飛躍。新的光刻設備可實現每小時處理195片晶圓的處理速度，相比Twinscan NXE:3600D的160片大概提升了22%，將來有可能提高至220片。此外，新工具還提供了小於1.1nm的晶圓對准精度。 即便用於4/5nm晶片的生產，Twinscan NXE:3800E也能提升效率，讓製造商可以提高晶片生產的經濟性，實現更為高效且更具成本效益的晶片生產。更為重要的一點，是Twinscan NXE:3800E對於製造2nm晶片和後續需要雙重曝光的製造技術有更好的效果，精度的提升會讓3nm以下的製程節點受益。 Twinscan NXE:3800E光刻機的價格並不便宜，機器的復雜性和功能是以巨大的成本為代價，每台大概在1.8億美元。不過比起新一代High-NA EUV光刻機的報價，顯然還是要低很多。此前有報導稱，業界首款採用High-NA EUV光刻技術的TWINSCAN EXE:5200光刻機報價達到了3.8億美元。 ASML還會繼續推進Low-NA EUV光刻設備的開發，接下來將帶來新款Twinscan NXE:4000F，計劃在2026年發布，這凸顯了ASML對EUV製造技術的承諾。 ...

要說過去幾年裡半導體行業最耀眼的明星，ASML（阿斯麥）算是其中之一。作為世界上僅有生產EUV和High-NA EUV光刻機的設備供應商，ASML這幾年站到了世界半導體技術的中心位置，提供了生產7nm以下晶片不可獲取的製造工具。 據De Telegraaf報導，ASML有意搬離荷蘭，向其他地方擴張或遷移，而法國是其中一個選擇。ASML有此打算，很重要一個原因是近期荷蘭新組建的內閣可能收緊勞工移民規定，這將嚴重影響ASML招聘新員工及未來的發展。據了解，目前ASML在荷蘭大約有2.3萬名員工，其中40%是非荷蘭籍，海外留學生和雇員是其主要勞動力來源之一。 為此荷蘭政府已制定了一項名為「貝多芬（Beethoven）」的特別計劃，旨在解決ASML對荷蘭商業環境所擔憂的問題，包括外籍人士的稅收優惠、勞工移民規定和政治穩定等問題。荷蘭首相Mark Rutte還親自領導了參與該計劃的小組，這反映出ASML對荷蘭經濟及其在全球科技行業地位的重要性。 ASML希望未來幾年能夠大幅度提高產能，以滿足市場的需求。ASML計劃2025年至2026年的年產能提高至90台EUV（極紫外光）光刻系統和600台DUV（深紫外光）光刻系統，同時2027年至2028年High-NA EUV系統的產能也將提高到20台。要達成這樣的目標並不容易，而眼下荷蘭持續惡化的營商環境讓ASML感到不滿。 ASML並不是唯一考慮外遷業務的荷蘭企業，近年殼牌和聯合利華等跨國公司已經將總部從荷蘭遷出。 ...

快科技2月17日消息，ASML已經向Intel交付第一台高NA EUV極紫外光刻機，將用於2nm工藝以下晶片的製造，台積電、三星未來也會陸續接收，可直達1nm工藝左右。 那麼之後呢？消息稱，ASML正在研究下一代Hyper NA(超級NA)光刻機，繼續延續摩爾定律。 ASML第一代Low NA EUV光刻機只有0.33 NA(孔徑數值)，臨界尺寸(CD)為13.5nm，最小金屬間距為26nm，單次曝光下的內連接間距約為25-30nm，適合製造4/5nm工藝。 使用雙重曝光，可將內連接間距縮小到21-24nm，就能製造3nm工藝了，比如台積電N3B。 第二代EUV光刻機提高到了0.55 NA，臨界尺寸縮小到8nm，金屬間距最小約為16nm，可製造3-1nm，比如Intel就透露會在1.4nm節點上首次使用。 ASML CTO Martin van den Brink在接受采訪時確認，ASML正在調查開發Hyper NA技術，繼續推進各項光刻指標，其中NA數值將超過0.7，預計在2030年左右完成。 它表示，這種新型EUV光刻機適合製造邏輯處理器晶片，相比高NA雙重曝光成本更低，也可用來製造DRAM內存晶片。 ASML已披露的數據顯示，低NA光刻機的成本至少1.83億美元，高NA光刻機更是3.8億美元起步。 根據微電子研究中心(IMEC)的路線圖，2030年左右應該能推進到A7 0.7nm工藝，之後還有A5 0.5nm、A3 0.3nm、A2 0.2nm，但那得是2036年左右的事兒了。 來源：快科技

去年末，ASML向英特爾交付了業界首台High-NA EUV光刻機。新設備的體積非常巨大，需要使用13個貨櫃和250個板條箱來進行運輸，將從荷蘭的費爾德霍芬運送到美國俄勒岡州希爾斯伯勒的英特爾半導體技術研發基地，另外還需要250名工程師並花費6個月完成安裝。 據相關媒體報導，ASML透露其一台High-NA EUV光刻機的價格大概為3.8億美元，是現有EUV光刻機（約1.83億美元）的兩倍多。目前ASML已從英特爾和SK海力士等公司獲得了High-NA EUV光刻機的訂單，數量在10至20台之間。與此同時，ASML計劃到2028年，每年生產20台High-NA EUV光刻機，以滿足市場的需求。 High-NA EUV光刻機是具有高數值孔徑和每小時生產超過200片晶圓的極紫外光大批量生產系統，用於製造3nm以下的晶片。其提供了0.55數值孔徑，與此前配備0.33數值孔徑透鏡的EUV系統相比，精度會有所提高，可以實現更高解析度的圖案化，以實現更小的電晶體特徵。 由於新一代光刻設備與舊款產品之間有許多不同之處，需要進行大量的基礎設施改造。英特爾打算在Intel 18A製程節點引入High-NA EUV光刻技術，這意味著大概在2026年至2027年之間開始啟用新設備。台積電（TSMC）要等到1nm級的A10工藝才會使用High-NA EUV光刻機，可能是出於對成本的考慮，也就是說要等到2030年左右。 ...

去年末，ASML向英特爾交付了業界首台High-NA EUV光刻機，從荷蘭的費爾德霍芬運送到美國俄勒岡州希爾斯伯勒的英特爾半導體技術研發基地，並在接下來的幾個月內完成安裝。據了解，每台High-NA EUV光刻機的成本約在3到4億美元。 近日SemiAnalysis的分析師表示，半導體製造商使用ASML新一代High-NA EUV光刻機在財務上意義不大。對於這種說法，ASML毫無疑問不會同意的，在接受Bits and Chips采訪時，ASML首次財務官Roger Dassen對於SemiAnalysis的進行了回擊。 Roger Dassen認為SemiAnalysis低估了High-NA EUV光刻機的好處，可以避免製造上雙重或四重曝光帶來的復雜性，只需要向英特爾了解一下就能明白了，稱新技術在邏輯和存儲晶片方面是最具成本效益的解決方案。從這點可以理解，錯過了EUV機遇的英特爾，為什麼最早下單High-NA EUV光刻設備。 具有高數值孔徑的新型High-NA EUV系統可提供0.55數值孔徑，與此前配備0.33數值孔徑透鏡的EUV系統相比，精度會有所提高，可以實現更高解析度的圖案化，以實現更小的電晶體特徵，同時每小時能生產超過200片晶圓。晶圓代工廠顯然了解使用High-NA EUV光刻機的利弊，ASML表示客戶已在2024年至2025年開始研發工作，並在2025年至2026年間進入大規模生產階段。 ...

經過十年的研發，ASML 於 2023 年 12 月正式向英特爾交付了首個High NA（高數值孔徑）EUV 光刻系統——TWINSCAN EXE:5000的首批模塊， 代表著尖端晶片製造向前邁出了重要一步。 近日，ASML發布了一篇題為《關於高數值孔徑 EUV 光刻你應該了解的 5 件事》的科普文章，對於High-NA光刻系統進行了進一步的介紹。 以下為芯智訊對該文章的翻譯： 目前晶片製造商依然是依靠電晶體微縮來推動微晶片技術的進步。雖然，這並不是改進晶片的唯一方法，例如，新穎的架構、先進封裝等也可以提高性能。但摩爾定律本質上成為普遍法則是有原因的 ：50 多年來，電晶體“微縮”一直是計算能力指數級增長的幕後推手。 多年來，我們一直在將深紫外 (DUV) 光刻技術 推向極限。為了減小可光刻的最小特徵的尺寸（稱為臨界尺寸 (CD)），我們可以通過調整兩個主要的參數：光的波長 λ 和數值孔徑 NA。 然而，現在我們的 DUV...

快科技1月25日消息，ASML送上了超預期的財報，所以公司市值一夜暴漲500億也是情理之中的事情。 ASML第四季度訂單激增 250%，從第三季度的26億歐元暴漲至91.9億歐元，最先進的極紫外光刻機已經拿下了56億歐元的訂單。 更重要的是，ASML表示，2023年淨銷售額增長30%，達到276億歐元。其中，中國市場占其光刻系統銷售額的29%，高於前一年的14%。 中國在去年第四季度占ASML銷售額的39%，成為該公司2023年的最大市場，而此前第一季度僅占8%。 在這樣的背景下，公司股價也是一度大漲近10%。ASML CEO在接受媒體采訪時表示，在經歷了一段需求放緩的時期之後，他現在看到了半導體行業的積極跡象，人工智慧需要大量的算力，將成為“我們的業務和客戶的業務的重要推動力”。 報告顯示中國廠商正在擴大28nm等成熟製程工藝 來源：快科技

今天，ASML（阿斯麥）公布了2023年第四季度和全年財報。 在2023年第四季度中，淨銷售額為72億歐元（約合人民幣561.98億元），毛利率為51.4%，淨利潤為20億歐元（約合人民幣156.11億元），整體表現略高於ASML預期。在2023年第四季度里，淨預定量為92億（約合人民幣718.09億元）歐元，其中56億歐元（約合人民幣437.1億元）自於EUV系統。在該季度里，ASML沒有根據2022-2025年股票回購計劃購買任何股票。在該季度里，ASML向客戶交付了業界首台High-NA EUV光刻機。 ASML在2023年全年淨銷售額為276億歐元（約合人民幣2154.26億元），相比2022年增長了30%，毛利率為51.3%，淨利潤為78億歐元（約合人民幣608.81億元）。截至2023年末，積壓的訂單總量為390億歐元（約合人民幣3044.07億元），低於去年同期的404億歐元。 2023年總股息為每股普通股6.10歐元，與2022年相比增長了5.2%。每股普通股1.45歐元的中期股息將於2024年2月14日支付。考慮到這一中期股息以及2023年支付的兩次每股普通股1.45歐元的中期股息，提交給股東大會的最終股息建議為每股普通股1.75歐元。 ASML預計，2024年第一季度的淨銷售額在50億歐元到55億歐元之間，毛利率在48%到49%之間，研發成本約為10.7億歐元，SG&A成本約為3億歐元。ASML執行長Peter Wennick表示，半導體行業繼續走在周期的底部，客戶對今年半導體市場的復蘇仍不確定，但也有一些積極的跡象，第四季度的強勁訂單顯然支持了未來的需求。ASML對2024年保持保守看法，預計收入與2023年接近。 ...

快科技1月24日消息，，ASML財務長Roger Dassen接受了視頻采訪，其中提到了大家非常關注的光刻機對中國出口問題。 Roger Dassen表示，2023年，ASML在中國市場的業績表現確實非常強勁，原因有兩個方面。 一是交付給中國客戶的大部分光刻機設備都是基於2022年甚至更早的訂單。 過去幾年，包括中國市場在內的全球光刻機訂單交付率其實相對偏低，還不到50％，因此，當其他客戶的需求時間節點發生變化時，ASML能夠向中國客戶交付已經預訂的設備。 正因為中國地區的交付量在增加，其他地區同時在減少，所以中國市場所占的ASML光刻機份額出現了相對明顯的上升。 二是發運到中國的光刻機設備主要針對成熟製程客戶。 Roger Dassen確認，荷蘭和美國最新頒布的出口管製法規已經生效，ASML對出口管制的適用范圍和影響，與政府做了進一步溝通。 ASML預計，出口管制將會影響ASML 2024年中國市場10-15％的銷售額，然而仍可看到終端市場對於成熟製程的需求依舊旺盛。這部分市場的需求很穩定，去年很穩定，未來也將繼續保持穩定。 可以預計的是，2024年，ASML將不會獲得向中國發運NXT:2000i及以上浸潤式光刻機設備的出口許可證。 同時，個別中國先進晶片製造晶圓廠將無法獲得發運NXT:1970i、NXT:1980i浸潤式光刻機設備的出口許可證。 來源：快科技

快科技1月2日消息，據ASML官方公告，2023年NXT：2050i、NXT：2100i光刻系統的出貨許可證被撤銷，不過這沒有太多可以擔心的地方。 按照ASML的說法，2023年基本交付了中國大陸客戶預付的DUV積壓訂單（至於2024年是不是可以繼續，ASML之前就表示不能確定。）。 事實上，2023年ASML一直都在向中國客戶供應光刻機，其中就包含了NXT:2000i和更先進的DUV型號的產品，且基本交付了中國大陸客戶預付的DUV積壓訂單。 至於先進的7nm、14nm等先進的EUV光刻機，ASML依然不能給中國客戶出售。 據ASML官網提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機產品共有三款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。 ASML官網上關於這一台TNXT:1980Di介紹，在解析度方面，寫到是大於等於38nm（可以支持到7nm左右），而這是指一次曝光解析度，事實上光刻機是可以進行多次曝光。 來源：快科技

2022年初，ASML宣布與英特爾的長期合作進入了新的階段，雙方將攜手推進半導體光刻前沿技術。英特爾也向ASML發出了購買業界首個TWINSCAN EXE:5200系統的訂單，這是具有高數值孔徑（High-NA）和每小時生產超過200片晶圓的極紫外光（EUV）大批量生產系統，為雙方長期的High-NA EUV技術合作搭建框架。 據TomsHardware報導，ASML已向英特爾交付業界首台High-NA EUV光刻機。本周開始，新設備將從荷蘭的費爾德霍芬運送到美國俄勒岡州希爾斯伯勒的英特爾半導體技術研發基地，並在未來幾個月內完成安裝。High-NA EUV光刻機的體積非常巨大，需要使用13個貨櫃和250個板條箱來進行運輸。據了解，每台High-NA EUV光刻機的成本約在3到4億美元。 英特爾在2018年向ASML購入了TWINSCAN EXE:5000系統，可以作為試驗機，更好地了解High-NA EUV設備的使用，獲得寶貴經驗。Intel 18A工藝計劃在2025年量產，英特爾將會引入High-NA EUV光刻技術，這將領先於競爭對手台積電（TSMC）和三星。High-NA EUV光刻機將提供0.55數值孔徑，與此前配備0.33數值孔徑透鏡的EUV系統相比，精度會有所提高，可以實現更高解析度的圖案化，以實現更小的電晶體特徵。 由於新一代光刻設備與舊款產品之間有許多不同之處，需要進行大量的基礎設施改造，提前部署可能會讓英特爾獲得競爭優勢。一方面能有更多的技術調整時間，另一方面有更充裕的時間進行基礎設施改造，以更好地適配High-NA EUV光刻機使用。 ...

近年來，ASML站到了世界半導體技術的中心位置。目前ASML有序地執行其路線圖，在EUV之後是High-NA EUV技術，ASML正在為客戶交付首台High-NA EUV光刻機做准備，預計會在未來幾個月內交付。 數周前，三星電子會長前往荷蘭，與ASML討論了幾項半導體業務。據Sammobile報導，三星已在上周與ASML簽署了一項價值1萬億韓元（約合7.7億美元/人民幣54.9億元）的協議，雙方將在韓國京畿道東灘投資建設半導體晶片研究設施，並在那裡共同努力改進EUV光刻製造技術。 這次三星獲得了High-NA EUV光刻設備技術的優先權，有助於確保購入下一代High-NA EUV光刻設備，為其DRAM存儲晶片和邏輯晶片的生產創造出優化High-NA EUV技術使用的機會。除了確保2nm晶片製造設備進入韓國，三星更看重的是與ASML建立的合作夥伴關系，以便更好地利用下一代光刻設備。 High-NA EUV系統將提供0.55數值孔徑，與此前配備0.33數值孔徑透鏡的EUV系統相比，精度會有所提高，可以實現更高解析度的圖案化，以實現更小的電晶體特徵，同時每小時能生產超過200片晶圓。此前英特爾已宣布購買業界首個TWINSCAN EXE:5200系統，計劃從2025年使用High-NA EUV進行生產。 據了解，ASML計劃明年生產10台High-NA EUV系統，其中英特爾已購入了6台。有消息稱，台積電計劃在2024年引入High-NA EUV系統，為2025年末2nm工藝進入大批量生產做好准備。ASML打算未來幾年內，將High-NA EUV系統的年產量提升至20台。 ...

執行長Peter Wennink和首席技術官Martin van den Brink都將在明年退休，ASML（阿斯麥）需要新的領導者。目前ASML已發布公告，提名Christophe Fouquet成為新的總裁兼執行長，目前還要等待股東的批准，預計會在2024年4月24日舉行的下一次ASML股東大會後正式接任。 Christophe Fouquet是ASML現任首席商務官（CBO），在ASML工作了15年，主要專注於ASML的技術、產品和客戶。在其職業生涯中，開始於DUV業務，隨後領導ASML應用業務和EUV業務，近年來幾乎負責了ASML所有的業務。 圖：左邊Christophe Fouquet，右邊Peter Wennink Peter Wennink稱贊Christophe Fouquet具備最重要的ASML DNA，即協同合作和夥伴關系，同時表示會與對方展開緊密合作，確保權力的順利過渡，讓Christophe Fouquet在新崗位上有一個好的開始。Peter Wennink從2013年7月以來一直領導著ASML，帶領這家荷蘭企業邁向巔峰。過去十年裡，ASML推出了最先進的晶圓製造設備，Peter Wennink成功地將ASML打造成全球領先的半導體設備供應商。 Martin van den Brink早在1984年就加入了ASML，被視為ASML技術創新背後最有影響力的高管之一。在過去近40年裡，Martin van den Brink讓ASML從一間與佳能、尼康競爭的小角色脫穎而出，發展成為如今全球唯一一家可供應最高端半導體製造設備的製造商。去年Martin van den Brink還接受了媒體的采訪，談及了即將交付客戶的首台High-NA...

ASML（阿斯麥）公布了2023年第三季度財報，顯示該季度中淨銷售額為67億歐元（約合人民幣518.55億元），毛利率為51.9%，淨利潤為19億歐元（約合人民幣147.05億元）。 在2023年第三季度，淨預定量為26億（約合人民幣201.23億元）歐元，其中5億歐元（約合人民幣38.7億元）自於EUV系統。在該季度里，ASML根據現行的2022-2025年股票回購計劃購買了價值約1億歐元的股票。此外，中期股息為每股普通股1.45歐元（約合人民幣11.22元），將於2023年11月10日支付。 ASML執行長Peter Wennick表示，2023年第三季度的淨銷售額處於預期范圍內的中間位置，同時毛利率51.9%高於預期，主要原因是該季度內受到DUV產品組合與部分一次性成本影響。半導體行業目前正在經歷周期的底部，今年年底應該會出現拐點，不過仍然不確定復蘇的形態，因此預計2024年屬於一個過渡年份，收入與2023年相若，為2025年的顯著增長做好准備。 ASML預計2023年第四季度的淨銷售額在67億歐元到71億歐元之間，毛利率在50%到51%之間，研發成本約為10.3億歐元，SG&A成本約為2.85億歐元。Peter Wennick稱，ASML確認了對2023年強勁增長的預期，淨銷售額增長接近30%，毛利率相對於2022年略有改善。 ...

10月18日消息，美國正在限制英偉達的人工智慧（AI）晶片的銷售，同時還有光刻機，對此ASML也是火速回應。 有消息稱，美國還在限制進入一些國家/地區的設備清單中添加了一些深紫外（DUV）光刻系統，這超出了荷蘭最近的規定，以阻止荷蘭ASML發送較舊的DUV型號和備件。 DUV光刻機不如最先進的極紫外（EUV)光刻機，但可以以更高的成本製造幾乎同樣先進的晶片。 ASML表示，“ASML需要仔細評估潛在的影響。就我們的業務而言，根據目前收到的信息，我們認為適用該新規的涉及先進晶片製造的中國大陸晶圓廠數量有限。從中長期角度來看，這些出口管制措施可能會影響到我們不同的機台銷售量在各區域間的配比，但我們預計這些措施不會對公司2023年的財務情況以及我們在2022年11月投資者日公布的2025年和2030年的長期展望產生重大影響。ASML將向美國政府進一步澄清這些新規的適用范圍。” 按照ASML之前的說法，在2023年的剩餘時間里，ASML將能繼續出貨其NXT:2000i和更先進的DUV型號的產品。 來源：快科技

如果要推進到7nm以下的先進位程工藝，ASML（阿斯麥）的EUV（極紫外光）光刻機可以說是必不可少的製造工具。為此在過去幾年裡，與EUV相關的設備成為了眾多半導體製造商爭搶的對象，一直處於供不應求的狀態，為此ASML還提高了產量。如果要購買一台EUV光刻機，往往還需要提前數月預訂。 對於EUV光刻機的運用最為成熟的當屬台積電（TSMC），這也是其領先於其他競爭對手的關鍵，目前已推進到3nm製程節點，蘋果也在剛剛上市的iPhone 15 Pro系列機型上採用了3nm工藝製造的A17 Pro晶片，不過這並沒有帶動3nm需求上升。據Wccftech報導，由於蘋果即將到來的新款iPad和MacBook Pro等產品的需求下降，加上高通因華為新機型導致3nm晶片訂單減少、三星3nm GAA和英特爾20A工藝需求不如預期，預計2024年市場對3nm產能的需求也會隨之下降。 此前就有報導稱，過去台積電、三星和英特爾等企業瘋狂爭搶EUV設備的熱度已經降溫，為縮小先進位程差距而不斷燒錢的三星和英特爾估計也會跟進台積電的做法，砍掉部分EUV設備的訂單。同時有消息指出，台積電還要求包括ASML在內的主要晶片製造工具供應商推遲交付晶圓廠所需要的設備。 ASML的報告顯示，2023年計劃出貨60台EUV光刻機，實際上前六個月僅出貨22台。隨著2023年EUV光刻機的出貨量下降，ASML對應的營收增長幅度也由原先預計的40%下調至25%。對EUV光刻機需求減弱的趨勢也將延續到明年，分析稱2024年ASML的EUV光刻機出貨量將大幅度下跌20%至30%。 ...

過去一段時間里，台積電（TSMC）的營收受到了全球整體經濟不景氣、終端市場需求減弱、以及客戶不斷進行庫存調整的影響。雖然台積電在全球多處有新建晶圓廠的工程，不過隨著產能需求減弱，最終還是選擇削減了資本支出的預算，減緩了部分項目的進度。 據相關媒體報導，台積電已要求其主要晶片製造工具供應商推遲交付晶圓廠所需要的設備，原因是客戶需求存在不確定性，以及位於美國亞利桑那州的在建晶圓廠Fab21的工程面臨延期。這些供應商中包括了ASML（阿斯麥），合理推測台積電打算延後接收光刻設備，這也是晶圓廠里最昂貴的工具之一。 據了解，目前台積電同時進行的晶圓廠項目除了美國的Fab21外，還有兩處在台灣、一處在日本，德國的項目剛剛敲定還沒有開工。此外，台積電還需要不斷為現有的晶圓廠添加工具，以提高產能，顯然現在遇到了挫折，希望通過延遲接受設備放緩資本支出。台積電總裁魏哲家此前曾表示，疲軟的經濟環境及客戶變得更加保守的趨勢，都可能影響台積電的決策。 ASML執行長Peter Wennick此前接受媒體采訪時承認，目前設備訂單交付上出現了一些延遲，但仍保持樂觀的態度，認為這種情況只是短期的管理挑戰。盡管面臨較多不確定性，但ASML預計2023年的業績仍能實現強勁增長，淨銷售額將增長30%，毛利率將相對於2022年會略有改善。 ...

當地時間9月6日，全球光刻機龍頭大廠ASML執行長Peter Wennink接受荷蘭新聞電視節采訪時，強調了知識移民的必要性，並警告孤立中國的經濟後果。Peter Wennink認為，排除知識移民和美國施加的出口限制可能會削弱荷蘭。 Peter Wennink對知識移民的立場很明確：“他們對荷蘭經濟不可或缺。” 他指出，知識移民為經濟做出貢獻並納稅，ASML公司的員工來自多達124個國家，其中許多人來自印度、土耳其、比利時和葡萄牙。 然而，ASML 的執行長並不是唯一一個強調知識移民重要性的人。 經合組織建議，如果荷蘭想要保持經濟增長，針對移民工人的規則必須變得更加靈活。荷蘭多個行業的技術工人日益短缺，所需數量將超過歐盟工人。 Peter Wennink還批評了荷蘭大學只用荷蘭語教學的想法。他指出，科技行業是用英語運作的。因此，使用英語作為教學語言將有助於營造更具包容性的教育環境，並增加荷蘭大學對國際學生的吸引力。 荷蘭的教育體系在吸引知識移民方面發揮著至關重要的作用。數據顯示，來到荷蘭的非歐盟知識移民數量從 2016年的320個到2022年已增長到1860個。這一增長的部分原因在於荷蘭提供的安全和豐富的就業機會。 Peter Wennink還擔心荷蘭與中國的經濟關系，特別是荷蘭政府在美國的壓力下實施的出口限制。 他認為孤立中國是毫無意義的，因為中國有14億居民，在面臨歐洲和美國的限制時，他會尋求解決方案。 上周，華為就推出了Mate 60 Pro，這款手機使用了中國製造的晶片。 荷蘭現任政府在移民問題上存在分歧。一些政黨主張更容易的勞動力遷移，而另一些政黨則不情願。 然而，考慮到Peter Wennink等專家的意見，吸引更多的知識移民並與中國等國保持良好的經濟關系似乎對荷蘭未來的經濟增長至關重要。 來源：快科技

ASML（阿斯麥）公布了2023年第二季度財報，顯示該季度中淨銷售額為69億歐元（約合人民幣555.73億元），毛利率為51.3%，淨利潤為19億歐元（約合人民幣153.03億元）。 在2023年第二季度，淨預定量為45億（約合人民幣362.44億元）歐元，其中16億歐元（約合人民幣128.87億元）自於EUV系統。在該季度里，ASML根據現行的2022-2025年股票回購計劃購買了價值約5億歐元的股票。此外，中期股息為每股普通股1.45歐元（約合人民幣11.68元），將於2023年8月10日支付。 ASML執行長Peter Wennick表示，2023年第二季度的淨銷售額處於預期范圍內相對高的位置，同時毛利率也高於預期，主要原因是該季度內有額外的DUV系統收入。由於宏觀經濟環境充滿持續的不確定性，不同細分市場的客戶更加謹慎，普遍預計市場將在今年晚些時候復蘇。目前ASML仍有較多的訂單積壓，總金額約為380億歐元。 ASML預計2023年第三季度的淨銷售額在65億歐元到70億歐元之間，毛利率約為50%，研發成本約為10億歐元，SG&A成本約為2.85億歐元。Peter Wennick稱，由於DUV系統收入強勁，盡管面臨較多不確定性，但ASML預計2023年的業績仍能實現強勁增長，淨銷售額將增長30%，毛利率將相對於2022年會略有改善。 ...

日前有傳聞稱，台積電砍掉了大約40％的EVU光刻機訂單，讓人不免為ASML捏一把汗，但是從最新公布的財報看，ASML依然賺錢賺到手軟。 2023年第一季度，ASML取得淨收入67.46億歐元(約合人民幣509億元)，環比增長4.9％，同比增長91％；淨利潤19.56億歐元(約合人民幣148億元)，環比增長7.6％，同比增長183％。 以上數據均好於市場預期，官方稱主要是因為光刻機安裝速度加快、驗收時間提前，EUV、DUV光刻機的銷售額都超出預期。 當季淨預訂銷售額為38億歐元，其中16億歐元(約合人民幣120.7億元)來自EUV外光刻機。 當季，ASML賣出全新光刻機96套，環比增加1套；二手光刻機4套，環比減少7套。 ASML透露，目前手中還有價值超過389億歐元(約合人民幣2940億元)的訂單等待交付，市場需求大大超出產能。 有說法稱，ASML光刻機2023年的供應缺口高達30％，2024年會擴大到50％，而且交付周期超過18個月，也就是現在下單至少一年半之後才能拿到貨。 ASML預計第二季度收入65-70億歐元，毛利率50-51％；2023年全年收入有望增長超過25％，毛利率也會略有增長。 ASML預計2023年全年交付DUV光刻機約375套、EUV光刻機約60套，其中EUV光刻機業務預計增長40％，非EUV業務增長30％，而在DUV光刻機中，大約25％是浸沒式設備。 PS：對於台積電砍單40％的傳聞，ASML有關人士回應稱，台積電的確有調整新增產能的計劃，但絕非砍單，而只是延期，只是時間變化，並不影響訂單量，長期總體需求並沒有變化。 來源：快科技

如果有關心半導體工藝方面的信息，相信對EUV（極紫外光）並不會感到陌生，如果要推進到7nm或更先進的工藝製程，可以說ASML（阿斯麥）的EUV設備是必不可少的工具。在過去幾年里，EUV設備成為了眾多半導體製造商爭搶的對象，一直處於供不應求的狀態，為此ASML還提高了產量。 根據ASML去年公布的計劃，2025年至2026年的年產能將提高到90台EUV（極紫外光）光刻系統和600台DUV（深紫外光）光刻系統，同時2027年至2028年High-NA EUV系統的產能也將提高到20台。 此前有報導稱，由於半導體行情反轉、存儲器產業陷入困境、以及政策限制等影響，近期台積電（TSMC）已減緩其產品擴張計劃，使得全球半導體設備材料供應鏈如坐針氈。據Digitimes報導，前十大設備廠中，已有多家對2024年的業績展望趨於保守，目前已提前開始進行削減成本的計劃。 有些讓人意想不到的是，一直產能跟不上訂單節奏的ASML也開始受到了影響，其最大的客戶台積電開始砍掉部分EUV設備的訂單，有傳言稱比例達到40%，並將出貨時間延後，這也讓ASML明年的營收承受了更大的壓力。預計2023年下半年起，全球半導體設備銷售所受到的影響會逐漸浮現，大機率會低於預期，客戶減單效應將於2024年逐步顯現。 過去台積電、三星和英特爾等企業瘋狂爭搶EUV設備的熱度已經降溫，為縮小先進位程差距而不斷燒錢的三星和英特爾估計也會跟進台積電的做法。從長遠來看，ASML依然獨占EUV設備市場，最遲會在2026年半導體市況全面復蘇後，再恢復增長。 ...

英偉達在GTC 2023上宣布，將與台積電（TSMC）、阿斯麥（ASML）和新思科技（Synopsys）三大半導體行業巨頭合作，將加速運算技術引入到計算光刻領域，加速下一代晶片的設計和製造，並推出名為「cuLitho」的計算光刻庫。 計算光刻主要通過軟體對整個光刻過程進行建模和仿真，使用光掩模文件的數學預處理來調整光學光刻中的像差和效果，以優化光源形狀和光罩形狀，減小光刻成像與晶片設計差距，從而使光刻效果達到預期狀態，從而提高良品率。不過隨著晶片的製造工藝向3nm及以下發展，每個光罩的負擔呈指數級增長，使得晶片製造的難度加大。 目前計算光刻的過程也成為了晶片設計和製造領域中最大的計算負擔，大型數據中心需要7x24連續運作，每年消耗數百億CPU小時，去創建用於光刻系統的光罩，每年需要的資本支出和能源消耗量也十分地驚人。為此英偉達聯合台積電、阿斯麥和新思科技，歷時四年終於完成了計算光刻技術的一項重大突破，推出了cuLitho計算光刻庫，為下一代2nm工藝奠定了基礎。 英偉達表示，通過GPU而不是CPU運算，可以將計算光刻的效率提高40倍。利用cuLitho計算光刻庫，可以將工作負載轉換成GPU並行處理，使得500個NVIDIA DGX H100就能完成40000個CPU組成的系統所完成的工作。同時也可以大大減輕晶圓廠的負擔，每天僅需要原來九分之一的功耗就能生產之前三到五倍的光罩，原來需要兩周時間生產的光罩現在一夜之間就能進行處理。 從長遠來看，在AI技術的協助下，cuLitho計算光刻庫可以實現更好的設計規則、更高的密度和更高的產量。 ...

ASML 的 EUV 光刻工具很貴。每個 EUV 工具現在接近 1.7 億美元，但您還是將其中的許多工具用於領先的半導體工廠。未來，每個 High-NA EUV 工具的成本將超過 3.5 億美元。 此外，這些晶圓廠還需要許多 DUV 光刻工具。每個人都想要一種更具成本效益的方式來圖案化晶片，因為僅光刻就消耗了 3nm 工藝節點成本的約 35%。 想像一下，如果有辦法打破這種趨勢。 上周，世界第二大半導體設備製造商應用材料公司宣布他們有一個潛在的解決方案。 該解決方案就是 Centura Sculpta 工具，這是一種可以執行新工藝步驟“pattern shaping”的新工具。 根據 Applied Materials...

隨著半導體工藝進入到5nm節點以內，對EUV光刻機的需求也不斷增長，目前全球只有ASML一家公司能夠生產EUV光刻機，今年的出貨量還會進一步提升。 當然，EUV這樣的光刻機主要用於先進工藝，所以全球有需求也有能力購買EUV光刻機的晶片製造商也不多，ASML CEO日前在采訪中提到他們在全球有5家EUV光刻機客戶。 雖然沒有提到具體的名單，但是台積電、三星、Intel這三家是沒跑的，他們的邏輯工藝現在都是要用到EUV光刻機的。 還有2家應該是記憶體晶片廠商了，三星這部分已經在14nm DRAM記憶體上使用EUV光刻了，SK海力士也跟進了，美光之前的表態相對保守一些，但遲早也會上EUV光刻機來生產記憶體晶片。 雖然只有5家客戶，但是最近幾年對EUV光刻機的需求提升很快，ASML預計今年會出貨60台EUV光刻機，而DUV光刻機達到375台，數量依然遠高於EUV。 畢竟EUV光刻機售價昂貴，單價在1.5到2億美元，人民幣超過10億元。 來源：快科技

在半導體設備中，光刻機是核心設備，決定了工藝的先進程度，EUV是當前最先進的光刻機，可以製造7nm以下的工藝，全球僅有荷蘭ASML公司能夠生產，單價將近10億元，下一代EUV甚至超過25億元。 研發EUV光刻機到底有多難？全球還有別的公司可以製造出來嗎？對於這樣的疑問，ASML公司日前在財報會議上談到了EUV的難點。 ASML表示，就ASML而言，它由數百個供應商組成，每個供應商在什麼方面都是世界級的。 只要提到通快、蔡司和VDSL的名字，他們的工作就是世界級的，這只是上百家供應商中的三個。 研發光刻機需要的不止是專利，它的訣竅是人，是大腦，ASML表示這些花了40年的時間。 物理學規律在全球都是一樣的，但是ASML做到這一步有著數百家公司積累的專業知識，他們作為系統集成商做出了光刻機。 來源：快科技