三星擴大部署EUV光刻工藝 新老記憶體齊上馬、領先對手兩年

繼SK海力士日前宣布在M14和建設中的M16工廠均引入EUV光刻機後，三星也坐不住了。

按照三星的說法，自2014年以來，EUV光刻參與的晶圓超過了400萬片，公司積累了豐富的經驗，也比其它廠商掌握更多訣竅，領先對手1到2年。

據悉，三星的1z nm DRAM第三代記憶體已經用上了一層EUV，第四代1a nm將增加到4層。EUV光刻機的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產時間、降低成本，並提高性能。

盡管SK海力士、美光等也在嘗試EUV，但層數過少對效率提升並不明顯，也就是單位成本高，畢竟EUV光刻機買一台要10億元。三星這方面倒是有優勢，因為自己還有晶圓廠，「東方不亮西方亮」光刻機的利用率很高。