5nm晶片無需光刻機中國科技公司已申請製造專利看完有點奇怪

9月15日，一家中國科技公司申請的“5納米晶片製造的直接蝕刻方法”專利正式公布。

摘要顯示，該發明涉及晶片設計及製造。這項發明的亮點在於，不用EUV光刻機或DUV光刻機，不需要光刻過程，直接蝕刻就可以製造5納米晶片。此專利一經公布，便引起了大量網友的關注。對於申請這項專利的中國科技公司，相信不少網友都很好奇。

申請這項專利的中國科技公司名叫“上海創消新技術發展有限公司”。根據企查查APP提供的信息，上海創消新技術發展有限公司於2019年3月13日正式成立，注冊資本為50萬元人民幣，所屬地區為上海市青浦區，法定代表人為劉明革，他同時也是上海敏革化學科技有限公司的股東和監事，持有上海創消新技術發展有限公司85%的股份，另外15%的股份由“劉佳慧”持有，並沒有什麼大公司持有上海創消新技術發展有限公司的股份。

工商信息顯示，上海創消新技術發展有限公司的注冊資本包括機械技術、電子技術、化工技術、建築技術、生物技術領域內的技術開發、技術轉讓、技術服務和技術咨詢。值得注意的是，這家公司的經營范圍並沒有涉及晶片相關的內容，例如晶片設計和晶片製造。