5月16日是聯合國教科文組織定義的「國際光日」，ASML中國官方在一篇中寫道「創新，讓摩爾定律重煥光彩」。
ASML中國強調，過去15年，摩爾定律依然生效且狀況良好，未來十年甚至更長時間內將繼續保持勢頭。
ASML自信滿滿地指出「在元件方面，目前的技術創新足夠將晶片的製程推進至至少1納米節點，包括gate-all-around FETs（環繞柵極電晶體），nanosheet FETs，forksheet FETs以及complementary FETs」。
此外，光刻系統解析度的改進（預計每6年左右縮小2倍）和邊緣放置誤差（EPE）對精度的衡量也將進一步推動晶片尺寸縮小的實現。
據了解，納米之後將進入埃米時代，台積電、Intel等都制定了雄心勃勃的埃米工藝早期路線圖。也許，技術創新之所以彌足珍貴，內核要義就在於不會被困難打倒。
來源：快科技
