美光宣布，目前已開始使用最新的1α工藝節點批量生產DRAM晶片。在今年年初，美光曾表示該工藝節點將用於8Gb和16Gb的DDR4和LPDDR4記憶體生產上，隨著時間的推移，計劃用於所有類型的DRAM，會顯著降低DRAM成本。
與很多同行業的競爭對手不一樣，美光至少在未來幾年內都不會使用EUV光刻技術來生產存儲晶片。美光也需要增加存儲晶片的密度以降低單位成本，因此要通過其他技術手段來縮小DRAM晶片的尺寸。美光1α與1Z工藝節點相比，單位密度提高了40%，功耗下降了20%，同時還能提供更好的潛在性能。美光還需要依靠使用新材料
目前使用1α工藝節點生產的8Gb DDR4晶片已經批量出貨了，這也是使用1α工藝節點的第一款晶片。在這個月末，美光還會出貨使用1α工藝節點生產的LPDDR4X晶片，最終整個產品線都會向1α工藝節點過渡，包括DDR5、HBM2e和GDDR6/GDDR6X晶片。美光首先在台灣台中的A3晶圓廠使用了1α工藝節點進行生產，接下來其他晶圓廠也會使用這項新技術。同時美光已完成基於1α工藝生產的DDR4記憶體在最新伺服器平台上的驗證，包括AMD第三代EPYC（Milan）系列處理器。
美光還展示了用戶伺服器的DDR5記憶體模塊，並透漏其DDR5技術賦能計劃的情況，有望在今年晚些使用出貨DDR5 DRAM IC和記憶體模塊。美光是第一家公開分享DDR5開發進度的企業，由於新一代記憶體技術和以往的標準有很大的不同，需要各方盡早合作做好准備。
美光在2020年啟動了DDR5技術賦能計劃（TEP），目的是使支持DDR5記憶體的平台得到更好的開發，為開發者和使用者提供所有的關鍵技術信息，同時美光還會向參與這項計劃的成員提供DDR5記憶體的模塊和零配件樣品。
來源：超能網
