SK海力士1bnm DDR5 DRAM開始進行驗證:採用HKMG工藝,功耗降低20%

SK海力士宣布,已經完成了現有DRAM中最為微細化的1bnm(第五代10nm級別)的技術研發,並將適用其技術的DDR5伺服器DRAM開始了「英特爾數據中心存儲器認證程序(The Intel Data Center Certified memory program)」,這是英特爾第四代至強可擴展平台(代號Sapphire Rapids)所採用的存儲器產品兼容性的正式認證流程。

這次SK海力士提供的DDR5 DRAM產品運行速度為6.4Gbps,也是同類產品里速率最高的,與初期的試製品相比,數據處理速度提高了33%。其採用了HKMG(High-K Metal Gate)工藝,相比1αnm(第四代10nm級別)工藝的產品,功耗降低了20%。

SK海力士1bnm DDR5 DRAM開始進行驗證:採用HKMG工藝,功耗降低20%

SK海力士表示,1bnm工藝技術的成功研發,意味著可以向全球客戶供應高性能與高效能功耗比兼備的DRAM產品。SK海力士希望今年開始量產最先進的1bnm工藝技術產品,以業界最高DRAM競爭力水平改善今年下半年業績。此外,SK海力士還打算將1bnm工藝技術擴展到LPDDR5T、HBM3E等高性能產品。

近期SK海力士的財務狀況並不好,上個月公布的2023財年第一財季財務報告顯示,因存儲器半導體市場持續低迷,需求疲軟和產品價格下跌,該季度營收環比減少,且營業虧損加大。為此SK海力士決定以DDR5伺服器DRAM和HBM等高性能DRAM、採用176層NAND的SSD、uMCP產品為中心的銷售,以提升營業收入。

來源:超能網