快科技4月18日消息，據台系設備廠商透露，ASML近期由於客戶大砍資本支出、縮減訂單，最重要是大客戶台積電也大砍逾4成EUV設備訂單及延後拉貨時間，2024全年業績將明顯承壓。
受此消息影響，ASML股價出現了下跌，而對於接下來的發展，其也將會保證中國市場的訂單。
ASML預計2023年在中國的銷售額將保持在22億歐元左右（約合人民幣超162億元），其正在加快拓展在中國的業務和銷售。
在這之前，ASML強調，新的出口管制措施並不針對所有浸潤式光刻系統，而只涉及所謂“最先進”的浸潤式光刻系統。截至目前企業尚未收到有關“最先進”的確切定義的信息，公司將其解讀為在資本市場日會議上定義的“關鍵的浸潤式光刻系統”，即TWINSCANNXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統。
所謂浸沒式光刻機，屬於193nm（光源）光刻機（分為乾式和浸沒式），可以被用於16nm至7nm先進位程晶片的製造，但是目前也有被業界廣泛應用在45nm及以下的成熟製程當中。
ASML公司官網信息顯示，該公司主流的DUV光刻機產品共有三款設備：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的產品。
ASML官網上關於這一台TWINSCAN NXT:1980Di的介紹，其中在解析度方面，寫到是大於等於38nm（可以支持到7nm左右），而這是指一次曝光的解析度，事實上光刻機是可以進行多次曝光的。
理論上NXT:1980Di依然可以達到7nm，只是步驟更為復雜，成本更高，良率可能也會有損失，晶圓廠用這一台光刻機，大多是生產14nm及以上工藝的晶片，很少去生產14nm以下的工藝，因為良率低，成本高，沒什麼競爭力。
來源：快科技
