荷蘭ASML（阿斯麥）正在全力研製劃時代的新光刻機high-NA EUV設備。
所謂high-NA即高數值孔徑，從當前的0.33提升到0.55，從而允許更緊密的電路圖案（2nm及以下）和更高的生產效率。
據elec報導，周二在韓國首爾，ASML CEO Peter Wennink透露，高NA EUV光刻機系統的單台造價將在300億到350億歐元之間，約合人民幣2195到2561億元。
這是什麼概念？
ASML目前在售的雙工件台EUV光刻機不過數億美元，此前有調侃說相當於一架F22/35戰機。而下一代產品不僅身價上調百倍，別說戰機，這麼一大筆錢“造航母”都夠了。
在舉個簡單的例子，2021財年Intel的淨利潤總額是199億美元，換言之，Intel忙活一年掙的錢，買一台高NA EUV光刻機都不夠……
不過，此前Intel表示自己是全球第一個下單的客戶，台積電也跟進了，三星和SK海力士則尚未表態。
按照ASML的說法，高NA EUV光刻機將在2024年進廠投入使用，預計年產能20台左右。該公司還預計其營收將在2025年翻一番。
來源：快科技
