當前，7nm以及更先進晶片製造有賴於ASML的EUV光刻機才能實現，最新款單價高達1.5億美元，包含10萬個部件和長達2公里的布線。
這麼一台設備除了價格昂貴、零件繁多、造型龐大等，耗電能力同樣不容小覷。
據媒體披露，當前ASML最新一代EUV光刻機的額定功耗是100萬瓦，約是前幾代設備的10倍。僅台積電就擁有超過80台EUV光刻機，粗算之下，開機一天的耗電量高達上百萬度。
類似地，三星在韓國的6個半導體製造基地去年的總能耗占到集團的3%，未來更多EUV光刻機進廠部署後，這個數字還可能繼續提高。
對於晶片製造行業的高耗能問題，業內認為，切換能源類型勢在必行，也就是讓可再生能源發電的比例提高。
來源：快科技
